000 -Record Label |
fixed length control field |
00825nam a2200229 4500 |
010 ## - ISBN - International Standard Book Number |
Qualificação |
Brochado |
Modalidade de aquisição e/ou preço |
oferta |
100 ## - Entrada principal |
Dados gerais de processamento |
19981023d1980 k||y0pory50 ba |
101 0# - Língua do documento |
Língua do texto, banda sonora, etc. |
fre |
102 ## - País da publicação |
País de publicação |
FR -França |
200 1# - Título |
Título próprio |
Intérêt et influence des faisceaux d'ions dans l'étude de la croissance et de l'évolution de couches minces amorphes |
Informação de outro título |
application à l'alumine anodique et au silicium amorphe hydrogéné |
Primeira menção de responsabilidade |
Mireille Fallavier |
210 ## - Local de edição |
Lugar da edição, distribuição, etc. |
Lyon |
Nome do editor, distribuidor, etc. |
M. F. |
Data da publicação, distribuição, etc. |
1980 |
215 ## - Descrição física (Vol.pg.fl.tm.fsc) |
Descrição física |
119 p. |
Outras indicações físicas |
il. |
Dimensões |
30 cm |
328 ## - Notas Dissertação ou tese |
Texto da nota |
Dissertação apresentada à l'Université Claude Bernard Lyon para obtenção do grau de Docteur d'État es-Sciences |
606 ## - Nome comum como assunto |
Koha Internal code |
29442 |
Elemento de entrada |
Física nuclear |
Subdivisão de assunto |
Teses |
680 ## - Classificação Biblioteca Congresso |
Notação |
QC776 |
700 ## - Autor (resp. principal) |
Palavra de ordem |
Fallavier |
Outra parte do nome |
Mireille |
Koha Internal Code |
37978 |
801 #0 - Fonte de origem |
Regras de catalogação |
RPC |
País |
Portugal |
942 ## - Elementos de entrada adicionados (Koha) |
Fonte da classificação ou esquema de estante |
|
Tipo de item no Koha |
Teses e dissertações |
Suprimido |
0 |