Fallavier, Mireille
Intérêt et influence des faisceaux d'ions dans l'étude de la croissance et de l'évolution de couches minces amorphes : application à l'alumine anodique et au silicium amorphe hydrogéné / Mireille Fallavier. - Lyon : M. F. , 1980 . - 119 p. : il. ; 30 cm.
ISBN
Física nuclear
LCC QC776
Intérêt et influence des faisceaux d'ions dans l'étude de la croissance et de l'évolution de couches minces amorphes : application à l'alumine anodique et au silicium amorphe hydrogéné / Mireille Fallavier. - Lyon : M. F. , 1980 . - 119 p. : il. ; 30 cm.
ISBN
Física nuclear
LCC QC776
