| 000 | 00932nam 22002533 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 87892 | ||
| 010 | _dOferta | ||
| 090 | _a87892 | ||
| 100 | _a20210707d2021 k||y0pory50 ba | ||
| 101 | _aeng | ||
| 102 | _aPT | ||
| 200 |
_aAtomic layer deposition of Al2O3 dielectrics for low-temperature TFT process _fRicardo Filipe Moreira Bárbora Fidalgo Carioca |
||
| 210 |
_aMonte de Caparica _cR. F. M. B. F. C. _d2021 |
||
| 215 |
_aXIV, 40 p. _cil. |
||
| 328 | _aDissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa, para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Micro e Nanotecnologias | ||
| 606 |
_aMicroelectrónica _xTeses |
||
| 606 |
_aNanotecnologia _xTeses |
||
| 680 | _aTK7874 | ||
| 700 |
_aCarioca _bRicardo Filipe Moreira Bárbora Fidalgo |
||
| 801 |
_aPT _gRPC |
||
| 856 | _uhttps://run.unl.pt/handle/10362/117489 | ||
| 942 |
_2lcc _cT _n0 |
||