| 000 | 00825nam a2200229 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 25186 | ||
| 010 |
_bBrochado _doferta |
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| 090 | _a25186 | ||
| 100 | _a19981023d1980 k||y0pory50 ba | ||
| 101 | 0 | _afre | |
| 102 | _aFR | ||
| 200 | 1 |
_aIntérêt et influence des faisceaux d'ions dans l'étude de la croissance et de l'évolution de couches minces amorphes _eapplication à l'alumine anodique et au silicium amorphe hydrogéné _fMireille Fallavier |
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| 210 |
_aLyon _cM. F. _d1980 |
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| 215 |
_a119 p. _cil. _d30 cm |
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| 328 | _aDissertação apresentada à l'Université Claude Bernard Lyon para obtenção do grau de Docteur d'État es-Sciences | ||
| 606 |
_aFísica nuclear _xTeses |
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| 680 | _aQC776 | ||
| 700 |
_aFallavier _bMireille |
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| 801 | 0 |
_gRPC _aPT |
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| 942 |
_2lcc _cT _n0 |
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