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Atomic layer deposition of Al2O3 dielectrics for low-temperature TFT process / Ricardo Filipe Moreira Bárbora Fidalgo Carioca
Language: eng.Country: Portugal.Publication: Monte de Caparica : R. F. M. B. F. C., 2021Description: XIV, 40 p. : il.Thesis: Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa, para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Micro e Nanotecnologias.Subject - Topical Name: Microelectrónica, Teses | 2657Online Resources:Click here to access online| Item type | Current library | Collection | Call number | Copy number | Status | Date due | Barcode | |
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| Teses e dissertações | Biblioteca NOVA FCT Online | Não Ficção | 1 | Available | 92318 |
Dissertação apresentada na Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa, para a obtenção do grau de Mestre em Engenharia Micro e Nanotecnologias
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