Catálogo bibliográfico FCT/UNL

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Centros profundos do silício amorfo hidrogenado : análise por medidas de admitância de díodos Schottky / Ana Maria Heleno Branquinho de AmaralPublication: Lisboa : A. M. H. B. A., 1991Description: XXXV, 249 p. : il. ; 31 cmAvailability: Items available for loan: Call number: QC611.AMA FCT 19538 (1).

Películas finas de óxido de índio e estanho : deposição, caracterização e estudo do comportamento em dispositivos / Carlos Alberto Nunes de CarvalhoPublication: Lisboa : C. A. N. C. , 1995Description: XXVI, 224 p. : il. ; 30 cmAvailability: Items available for loan: Call number: QC611.CAR FCT 32347 (1).

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